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Ieee Photonics Technology Letters

IEEE 光子技術(shù)快報 SCIE

Ieee Photonics Technology Letters

約2.0個月 審稿時間

3區(qū)中科院分區(qū)

Q2JCR分區(qū)

2.3影響因子

1041-1135

1941-0174

IEEE PHOTONIC TECH L

UNITED STATES

工程技術(shù) - 工程:電子與電氣

1989

143

Monthly

English

359

0.03...

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期刊簡介

IEEE 光子技術(shù)快報(Ieee Photonics Technology Letters)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本工程技術(shù)-工程:電子與電氣學(xué)術(shù)刊物,主要報道工程技術(shù)-工程:電子與電氣相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊,該刊創(chuàng)刊于1989年,出版周期Monthly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級:Q2,2023年發(fā)布的影響因子為2.3,CiteScore指數(shù)5,SJR指數(shù)0.684。本刊非開放獲取期刊。

IEEE 光子技術(shù)快報涉及 IEEE 光子學(xué)會憲法領(lǐng)域的所有方面,重點(diǎn)關(guān)注光子/光波組件和應(yīng)用、激光物理和系統(tǒng)以及激光/電光技術(shù)。上述重點(diǎn)領(lǐng)域的主題領(lǐng)域示例包括集成光學(xué)和光電子器件、高功率激光陣列(例如二極管、CO2)、自由電子激光器、固態(tài)激光器、激光材料相互作用和飛秒激光技術(shù)。該快報期刊發(fā)表工程、應(yīng)用物理和物理導(dǎo)向論文。重點(diǎn)是及時發(fā)表手稿。目標(biāo)是提供其他快速出版期刊所沒有的電光領(lǐng)域高質(zhì)量工程導(dǎo)向論文的焦點(diǎn)。

中科院分區(qū)信息

IEEE 光子技術(shù)快報2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
IEEE 光子技術(shù)快報2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
IEEE 光子技術(shù)快報2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
IEEE 光子技術(shù)快報2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
IEEE 光子技術(shù)快報2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
IEEE 光子技術(shù)快報2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
名詞解釋:

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Ieee Photonics Technology Letters(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352
50.4%
學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 51 / 119
57.6%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179
44.4%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 159 / 354
55.23%
學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 53 / 120
56.25%
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 179
60.06%
名詞解釋:

湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計

1、Cite Score(2024年最新版)
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 261 / 797
67%
大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 75 / 224
66%
大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 95 / 284
66%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對比及走勢

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱 引用次數(shù)
  • On the Performance of MIMO-NOMA-Based Vi...

    34
  • Graphene Sensor Based on Surface Plasmon...

    24
  • Monolithic Red/Green/Blue Micro-LEDs Wit...

    20
  • A VLC Smartphone Camera Based Indoor Pos...

    20
  • 1.3-mu m Reflection Insensitive InAs/GaA...

    17
  • Active Matrix Monolithic LED Micro-Displ...

    16
  • Polarization Beam Splitter Based on MMI ...

    15
  • Plasmonic Refractive Index Sensor Employ...

    15
  • Black Phosphorus: A New Platform for Gas...

    14
  • Toward the Integration of CV Quantum Key...

    14

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • OPT EXPRESS

    1325
  • J LIGHTWAVE TECHNOL

    1127
  • OPT COMMUN

    693
  • IEEE PHOTONICS J

    601
  • IEEE PHOTONIC TECH L

    521
  • OPT LETT

    516
  • APPL OPTICS

    515
  • IEEE ACCESS

    401
  • SENSORS-BASEL

    391
  • OPTIK

    386

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • OPT EXPRESS

    988
  • OPT LETT

    720
  • J LIGHTWAVE TECHNOL

    557
  • IEEE PHOTONIC TECH L

    521
  • APPL PHYS LETT

    297
  • APPL OPTICS

    223
  • IEEE J SEL TOP QUANT

    153
  • NAT PHOTONICS

    141
  • IEEE PHOTONICS J

    124
  • IEEE J QUANTUM ELECT

    99

國家/地區(qū)發(fā)文數(shù)據(jù)

國家/地區(qū)名 數(shù)量
  • CHINA MAINLAND

    699
  • USA

    183
  • Canada

    74
  • GERMANY (FED REP GER)

    72
  • England

    69
  • India

    69
  • Japan

    68
  • South Korea

    57
  • France

    46
  • Italy

    43

機(jī)構(gòu)發(fā)文數(shù)據(jù)

機(jī)構(gòu)名 數(shù)量
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

    100
  • HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOL...

    54
  • INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (I...

    39
  • SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY

    39
  • ZHEJIANG UNIVERSITY

    31
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF...

    29
  • TSINGHUA UNIVERSITY

    25
  • NANJING UNIVERSITY

    23
  • IMEC

    22
  • UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHN...

    22

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