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光電工程雜志國(guó)內(nèi)刊號(hào)是多少?

來(lái)源:好投稿網(wǎng)整理 2024-10-17 14:30:51

光電工程雜志國(guó)內(nèi)刊號(hào):51-1346/O4。

名詞解釋

國(guó)內(nèi)刊號(hào)又被稱為國(guó)內(nèi)統(tǒng)一刊號(hào),是報(bào)刊管理部門(mén)為了便于報(bào)刊統(tǒng)計(jì)、管理而按一定規(guī)則進(jìn)行編排的號(hào)碼總稱,一般以GB2659—86所規(guī)定的中國(guó)國(guó)別代碼“CN”為識(shí)別標(biāo)志。

光電工程雜志內(nèi)容簡(jiǎn)介

《光電工程》雜志(CN:51-1346/O4)內(nèi)容豐富、思想健康,1974年創(chuàng)刊,目前以月刊形式發(fā)行,刊物對(duì)外積極擴(kuò)大宣傳,致力于提高雜志質(zhì)量與影響。

《光電工程》雜志主要有自適應(yīng)光學(xué),應(yīng)用光學(xué),微光學(xué),光電捕獲跟蹤測(cè)量技術(shù),光學(xué)設(shè)計(jì),薄膜光學(xué),自動(dòng)控制,電視技術(shù),激光技術(shù),光刻,精密刻劃和光電傳感技術(shù),光通信,光計(jì)算,以及光學(xué)方面的其它高新技術(shù)。

雜志近年影響因子展示

雜志發(fā)文方向

自適應(yīng)光學(xué)、空間光學(xué)、目標(biāo)檢測(cè)、光電控制和測(cè)量、薄膜光學(xué)、激光技術(shù)、光通信、微細(xì)加工技術(shù)、等。

雜志近年發(fā)文量及期刊他引率展示

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主管單位:中國(guó)科學(xué)院

主辦單位:中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所;中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)

國(guó)際刊號(hào):1003-501X

國(guó)內(nèi)刊號(hào):51-1346/O4

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